991-2006年在浙江大學(xué)硅材料國家重點實驗室工作，其中2002-2003年在德國基爾大學(xué)透射電子顯微鏡研究室工作。長期從事透射電子顯微鏡、掃描電鏡及雙晶X射線衍射等測試分析，參與了國家自然科學(xué)基金重點項目、國家重點基礎(chǔ)研究發(fā)展規(guī)劃基金項目等，開展SiGe、ZnO 等薄膜生長與表征、納米結(jié)構(gòu)等研究。 　目前主要利用透射電子顯微鏡，從事材料的顯微結(jié)構(gòu)研究。