基本內(nèi)容
991-2006年在浙江大學(xué)硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室工作,其中2002-2003年在德國(guó)基爾大學(xué)透射電子顯微鏡研究室工作。長(zhǎng)期從事透射電子顯微鏡、掃描電鏡及雙晶X射線衍射等測(cè)試分析,參與了國(guó)家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目、國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展規(guī)劃基金項(xiàng)目等,開展SiGe、ZnO 等薄膜生長(zhǎng)與表征、納米結(jié)構(gòu)等研究。 目前主要利用透射電子顯微鏡,從事材料的顯微結(jié)構(gòu)研究。