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  • 滿衛(wèi)東

    滿衛(wèi)東(博士)

    滿衛(wèi)東,男,出生于1970年11月,博士,教授,現(xiàn)任武漢工程大學(xué)材料物理專業(yè)教研室主任。


    個(gè)人履歷

    1992年畢業(yè)于合肥工業(yè)大學(xué)化工系,獲學(xué)士學(xué)位;2002年2月畢業(yè)于武漢化工學(xué)院(現(xiàn)武漢工程大學(xué))獲碩士學(xué)位;2006年7月畢業(yè)于中國(guó)科學(xué)院等離子體物理研究所獲博士學(xué)位。2010年獲得教授職稱,武漢工程大學(xué)碩士生導(dǎo)師,F(xiàn)任材料物理專業(yè)教研室主任。

    主要成就

    主要從事CVD金剛石膜的制備與加工,微波能產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用研究、微波等離子體工業(yè)應(yīng)用,功能薄膜PVD、CVD設(shè)備與工藝的研發(fā),材料表面涂覆與表面改性等方面的研究工作;目前的研究主要集中在單晶鉆石外延產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的研究,大功率微波CVD金剛石膜沉積設(shè)備的研發(fā)等方面。對(duì)獲取國(guó)外先進(jìn)的專業(yè)技術(shù)信息頗有研究。先后主持和參與國(guó)家、省自然科學(xué)基金等縱橫向科研項(xiàng)目10余項(xiàng)?蒲羞M(jìn)賬212萬。作為第一作者或通訊作者在國(guó)內(nèi)外核心刊物上發(fā)表研究論文60余篇,其中SCI:17篇,EI:12篇。獲國(guó)家發(fā)明專利1項(xiàng)。

    主要教學(xué)、科研項(xiàng)目

    (1)等離子體輔助固體接觸法圖形化CVD金剛石膜的研究(Q20081505),2008-2010,湖北省教育廳科研計(jì)劃項(xiàng)目

    (2)廢水處理用高比表面導(dǎo)電金剛石膜電極的制備研究(2008CDB255),2008-2010,湖北省自然科學(xué)基金

    (3)聲表面波用金剛石/硅基底的研制,2009-2011,鄭州大學(xué)

    滿衛(wèi)東

    (4)適應(yīng)低碳經(jīng)濟(jì)發(fā)展模式的材料物理專業(yè)培養(yǎng)方式的探索(2010235),2011-2012,湖北省教育廳重點(diǎn)教研項(xiàng)目

    發(fā)表的主要論文

    [1]Man Weidong, Weng Jun, et al., A Novel Method of Fabricating Large u2013crystal, well-facet Diamond through MPCVD, Plasma Science and Technology, 2009, 11(6):688-692

    [2]滿衛(wèi)東,翁俊,等,MPCVD法在基片邊緣生長(zhǎng)大顆粒金剛石的研究,人工晶體學(xué)報(bào),2011,40(1):53-59

    [3]滿衛(wèi)東,謝鵬,等,微波等離子體同質(zhì)外延修復(fù)金剛石的研究,人工晶體學(xué)報(bào),2008,37(5):1157-1161.

    [4]滿衛(wèi)東,孫蕾,等,CVD金剛石膜表面圖形化加工技術(shù)的研究,微細(xì)加工技術(shù),2008,101(3):25-29

    [5] Man Weidong, Wang Jianhua, et al., Planarizing CVD diamond Films by using hydrogen plasma etching enhanced carbon diffusion process, Diamond and Related Materials, 2007, 6(8):1455-1458

    授權(quán)發(fā)明專利

    1.一種金剛石表面圖形化方法,CN200710053016[1].9,發(fā)明人:滿衛(wèi)東,汪建華

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