人物經(jīng)歷
2000-2010年期間留學英國，荷蘭，比利時。在等離子體物理、等離子體醫(yī)學、新型等離子體源開發(fā)、液態(tài)金屬回路、液態(tài)金屬儲能等方面取得了創(chuàng)新性研究成果。
社會任職
首批受聘科技部國際熱核反應堆國內(nèi)專項課題負責人，真空科學與技術學報理事，中國電工技術學會電子束離子束專業(yè)委員會委員，The Open Surface Science Journal雜志編委。
研究領域
1. 等離子體與壁材料相互作用研究
2. 等離子體醫(yī)學
3. 液態(tài)金屬回路
4. 液態(tài)金屬儲能
學術成果
撰寫英文專著2部。國內(nèi)外著名期刊上共發(fā)表研究論文70余篇。主持ITER專項國內(nèi)配套項目子課題2項，自然科學基金1項。
代表性論文：
[1] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, Theoretical modeling of energy redistribution and stereodynamics in CFscattering from Si (100) under grazing incidence, Phys. Chem. Chem. Phys. 8, 5522 (2006)
[2] F. Gou, Molecular dynamics simulation of deposition and etching of Si bombarding by energetic SiF, Applied Surface Science253, 5467（2007）
[4] F. Gou, M. A. Gleeson, A. W. Kleyn, CH3 interaction with Si (100)-(2x1): Molecular Dynamics Simulation, Surface Science 601, 3965(2007)
[5] F. Gou, A. Gleeson, A. W. Kleyn，The application of molecular dynamics to the study of plasma-surface interactions: CFx with silicon, International Review of Physical Chemistry 27, 229-271 (2008)
[6] F. Gou, S. Tink, E. Neyts, A. Boargart, Molecular Dynamics Simulations of Cl+ Etching on a Si(100) Surface, Journal of Applied Physics. Accepted