簡介
獲得學(xué)士、碩士和博士學(xué)位分別在哈爾濱工業(yè)大學(xué)、海軍航空工程學(xué)院和香港理工大學(xué)。多年的國外工作經(jīng)歷包括北美研究助理、電氣工程師和日本學(xué)術(shù)振興會JSPS Research Fellow。2006年回國工作在哈爾濱工業(yè)大學(xué)電氣工程及自動化學(xué)院，任職教授、博士生導(dǎo)師。多年來一直從事電氣絕緣、氣體等離子放電及應(yīng)用方面的研究工作，承擔(dān)各種國際和基金項目，特別是近年來的跨學(xué)科交叉學(xué)科領(lǐng)域的研究：如利用氣體等離子放電的納米波長光源（EUV）開發(fā)；等離子放電應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境處理；以及超臨界流體中低溫等離子放電研究，已取得多項研究成果，在國外發(fā)表學(xué)術(shù)論文40余篇，SCI收錄11篇、EI 22篇，多次作為國際刊物論文評審人和學(xué)術(shù)會議主持人。IEEE、IEE Japan、IEE Canada、IEE HK會員。
學(xué)科
高電壓與絕緣技術(shù)
研究方向
等離子放電及應(yīng)用；電力設(shè)備的絕緣狀態(tài)監(jiān)測、診斷及全壽命管理技術(shù)；生物電氣。
論著成果
SCI論文
C.H. Zhang, S. Katsiki and H. Akiyama, EUV Emission from Gas Discharge Produced Plasmas and Solid Tin as Target, J. Phys. D: Appl. Phys. 38 (2005) 4191-4195
C.H. Zhang, S. Katsiki and H. Akiyama, Optimizing Operational Parameters for Z-Pinch EUV Source by Artificial Neural Network (ANN), Japanese Journal of Applied Physics, 44 (7B), 2005
C.H. Zhang, S. Katsiki and H. Akiyama, High-Power EUV Source for Lithography Using Tin Target, Intl. Journal of Nanoscience (IJN) (accepted)
J.M.K. MacAlpine and C.H. Zhang, Observations from Measurements of the Furfural Content of Transmission Transformers, Electrical Power Systems Research, 57, 3, pp. 173-179, 2001
C.H. Zhang and J.M.K. MacAlpine, A Phase-related Investigation of AC Corona in Air, IEEE Trans. on DEI, Vol. 10, No. 2, pp. 312-319, April 2003
J.M.K. MacAlpine and C.H. Zhang, The Effect of Humidity on the Charge/Phase-angle Patterns of AC Corona Pulses in Air, IEEE Trans. on DEI, Vol. 10, No. 3, pp. 506-513, June 2003
