基本信息
學(xué) 歷: 研究生
通訊地址: 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號
所屬部門： 硅器件與集成技術(shù)研究室(一室)
代表論著
1. 邵紅旭，孫寶剛，韓鄭生，“0.1mm SOI槽柵CMOS器件特性仿真”，電子工業(yè)專用設(shè)備，2005年第一期，已發(fā)表；
2. 邵紅旭，吳俊峰，韓鄭生，孫寶剛，“硅膜厚度對0.1mm SOI槽柵NMOS器件特性的影響”，微電子學(xué)與計算機，已發(fā)表；
3.邵紅旭，孫寶剛，吳俊峰，鐘興華, “Study on the Characteristics of 0.1mm SOI Grooved gate pMOSFET”，半導(dǎo)體學(xué)報，已發(fā)表；
4. 程 超，海潮和，孫寶剛，“0.5μm高速BiCMOS的工藝研究”，微電子學(xué)與計算機，已發(fā)表；
5. 程 超，海潮和，孫寶剛，“高速雙極晶體管工藝條件的優(yōu)化研究”，微電子學(xué)，已發(fā)表