基本信息
1999-2002： 煙臺(tái)大學(xué)，理學(xué)碩士
2002-2006：中科院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所，工學(xué)博士
承擔(dān)課程
工作至今，曾講授過(guò)的課程有：《量子力學(xué)》，《力學(xué)》，《光電技術(shù)》，《大學(xué)物理》等
研究方向
主要從事光學(xué)光刻技術(shù)方面的研究。
研究項(xiàng)目
獲獎(jiǎng)
學(xué)術(shù)交流
論文、專著
Liping Guo, Xiangzhao Wang, Huijie Huang. Analysis of illumination pupil filling ellipticity for CD control in photolithography. Chinese Optics Letters, 2006, vol 4（4）.
Liping Guo, Huijie. Huang, Xiangzhao Wang. Exposure dose control for step-and-scan lithography. Proc. SPIE, 5645, 217-223, 2004.
郭立萍， 王向朝， 黃惠杰. 照明光瞳非對(duì)稱性對(duì)光刻成像影響. 光學(xué)學(xué)報(bào),2006 vol 26（6）.
郭立萍, 黃惠杰, 王向朝. 積分棒在步進(jìn)掃描投影光刻系統(tǒng)中的應(yīng)用. 光子學(xué)報(bào), 2006 vol 35（7）.
郭立萍, 黃惠杰, 王向朝. 步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)中的曝光劑量控制技術(shù)研究. 激光雜志, 2004 （12）.
郭立萍, 黃惠杰, 王向朝. 光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù). 激光雜志, 2005 （1）.
郭立萍, 王向朝. 步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)中的雜散光原位檢測(cè)方法. 發(fā)明專利No.200510024229. X.
