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  • 李超波

    李超波(研究員)

    李超波,男,中國科學院微電子研究所微電子學與固體電子學工學博士,現(xiàn)任職于中國科學院微電子研究所,微電子儀器設備研發(fā)中心副主任、研究員,中科院青聯(lián)委員,北京市生產(chǎn)力促進中心特聘責任專家,其主要研究方向為新原理納米加工工藝與裝備、MEMS制造與傳感技術、智能裝備。


    基本信息

    姓 名: 李超波

    性 別: 男

    職 務: 研發(fā)中心副主任

    職 稱: 研究員

    學 歷: 工學博士

    通訊地址: 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號

    所屬部門: 微電子儀器設備研發(fā)中心

    教育背景

    1997-2001 山東大學 通信與信息系統(tǒng) 理學學士

    2002-2007 中國科學院微電子研究所 微電子學與固體電子學 工學博士

    工作簡歷

    2007.07至今,在中國科學院微電子研究所工作,現(xiàn)為研究員、碩士生導師、微電子設備技術研究室副主任,中科院青聯(lián)委員,北京市生產(chǎn)力促進中心特聘責任專家。

    1. 2007年~2009年,中國科學院微電子研究所微電子設備技術研究室工作,任新原理裝備課題組組長、助理研究員

    2. 2009年~2011年,任微電子設備技術研究室主任助理、副研究員

    3. 2011年起,任微電子設備技術研究室副主任、副研究員

    4. 2014年起, 任微電子設備技術研究室副主任、研究員

    5. 2015年起,任微電子儀器設備研發(fā)中心副主任、研究員,中科院青聯(lián)委員

    研究方向

    新原理納米加工工藝與裝備、MEMS制造與傳感技術、智能裝備

    社會任職

    北京市科委“精機工程”(微電子裝備、智能可穿戴領域)特聘責任專家

    獲獎榮譽

    1. 離子體浸沒離子注入機開發(fā)與應用,北京市科學技術獎三等獎,2014年

    2. 原子層沉積系統(tǒng)級工藝,全國發(fā)明展覽會一等獎,2011年

    3. 高亮度LED圖形化襯底刻蝕系統(tǒng)及工藝,全國發(fā)明展覽會三等獎,2011年

    4. 首都科技條件平臺中科院研發(fā)試驗服務基地測試基金一等獎,2009年

    5. 中國科學院青年創(chuàng)新促進會首批優(yōu)秀會員,2015年

    6. 中國科學院青年創(chuàng)新促進會首批會員,2011年

    7. 中國科學院微電子研究所特別表現(xiàn)獎,2008年

    8. 中國科學院優(yōu)秀畢業(yè)生,2007年

    代表論著

    1. Preparation of ZnO films with variable electric field-assisted atomic layer deposition technique,Applied Surface Science

    2. 浸沒式等離子體注入設備的仿真優(yōu)化,真空科學與技術學報,2014

    3. 原子層沉積生長速率的控制研究進展,無機材料學報,2014

    4. High-precision thickness regulation of graphene layers with low energy helium plasma implantation,Nanotechnology,2012

    5. Anodic bonding using a hybrid electrode with a two-step bonding process,Journal of Semiconductors,2012

    科研項目

    1. 中國科學院青年創(chuàng)新促進會優(yōu)秀會員人才計劃,2016-2018

    2. 可控原位摻雜的原子層薄膜制備系統(tǒng),中科院裝備研制項目,2013-2015

    3. 45nm銅互連清洗設備工藝腔室與工藝開發(fā),2013-2015

    4. 等離子體浸沒超低能離子注入機,國家科技重大專項,2009-2014,負責人

    5. 中國科學院青年創(chuàng)新促進會會員,2011-2014

    專利申請

    1. 一種用于微流體系統(tǒng)中的對準鍵合結構及其制作方法,發(fā)明專利,2015

    2. 一種等離子體浸沒注入裝置,發(fā)明專利,2011

    3. 利用等離子體浸沒離子注入制備黑硅的方法,發(fā)明專利,2010

    4. 用于雙腔室結構等離子體浸沒離子注入的隔板裝置,發(fā)明專利,2010

    5. 基片離子均勻注入的方法,發(fā)明專利,2010

    6. 一種用于等離子體浸沒注入劑量檢測的法拉第裝置,發(fā)明專利,2009

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