基本內(nèi)容
基本信息
像場彎曲起源于透鏡成像的基本規(guī)律,對于同一透鏡,距離遠(yuǎn)的物體成像近,反之,距離近的物體,成像遠(yuǎn)。如圖
平面AB的A點(diǎn)離鏡頭近成像于A;平面AB上的B點(diǎn)點(diǎn),由于離透鏡比A點(diǎn)遠(yuǎn),因此,B點(diǎn)經(jīng)透鏡成像于B’點(diǎn),B’點(diǎn)就得比A’點(diǎn)離鏡頭近
1839年,佩茲伐爾證明,對于一個光學(xué)鏡頭組,如果鏡頭沒有其他像差,
它的像場彎曲的曲率有下列公式表示:
像場彎曲
其中
為曲面的曲率半徑。
為像場彎曲的曲率半徑。
稱為佩茲瓦爾和。
佩茲瓦爾證明佩茲瓦爾和和鏡頭的孔徑、光圈位置、鏡片厚度、鏡片間的空氣間隙無關(guān)
一個有多個互相由空氣隔離的薄鏡片構(gòu)成的鏡頭,
其佩茲瓦爾和,
其中是薄鏡片的焦度,是鏡片材料的折射率。