基本內(nèi)容
1941年1月23日生,浙江溫州人。高級工程師。1966年畢業(yè)于浙江大學光學儀器工程學系。專長光學式分析儀器設計,現(xiàn)從事原子吸收分光光度設計、總體設計。1979年因3200原子吸收分光光度計獲第一機械工業(yè)部科技成果二等獎。
1941年1月23日生,浙江溫州人。高級工程師。1966年畢業(yè)于浙江大學光學儀器工程學系。專長光學式分析儀器設計,現(xiàn)從事原子吸收分光光度設計、總體設計。1979年因3200原子吸收分光光度計獲第一機械工業(yè)部科技成果二等獎。