基本內(nèi)容
1996年8月畢業(yè)于中國科學院上海硅酸鹽研究所無機非金屬材料專業(yè), 獲博士學位。現(xiàn)為中國科學院上海光學精密機械研究所研究員、博士生導師。十多年以來從事晶體生長和性能研究, 曾負責和參與國家自然科學基金、國家863高技術(shù)、智利國家科學技術(shù)委員會、豊田中央研究所先端研究部門和國際環(huán)境技術(shù)轉(zhuǎn)移研究中心的科研項目。
1997年-2000年間在智利大學物理系做博士后三年,負責智利國家科學技術(shù)委員會項目《水熱-電化學法制備復合氧化物薄膜》。
2001年-2003年間在日本豊田中央研究所先端研究部門做客員研究員兩年,致力于發(fā)展先進環(huán)境友好熱電發(fā)電材料,主要負責板狀模板晶體材料的制備,用水熱法、共沉淀法和助熔劑成功制備出了多種板狀晶體材料,并采用模板晶粒生長技術(shù)(TGG)和反應(yīng)模板晶粒生長技術(shù)(RTGG)實現(xiàn)了環(huán)境友好型熱電發(fā)電陶瓷的原位單晶化,顯著地提高了材料的熱電發(fā)電特性,保證了豊田中央研究所在這一領(lǐng)域的國際領(lǐng)先地位。
2004年作為國外杰出人才被上海光學精密機械研究所引進回國。五年多來在寬禁帶半導體材料GaN和ZnO的新型單晶襯底和氧化物稀磁半導體材料等方面開展研究工作。在國內(nèi)率先開展白光LED熒光襯底研究,在國際上首次提出了幾種新型熒光襯底,已取得一定進展。
在Phys. Rev. B, J. Crystal Growth等刊物上發(fā)表論文78篇, 其中SCI收錄46篇, EI收錄52篇,論文SCI他人正面引用300余次。申請日本發(fā)明專利一項、中國發(fā)明專利十多項。