基本內(nèi)容
易新建華中科技大學(xué)光電子科學(xué)與工程學(xué)院教授 博士生導(dǎo)師
光電信息技術(shù)研究所
1961年畢業(yè)于華中工學(xué)院 金屬材料專業(yè)，1962-1964 武漢大學(xué)進(jìn)修，1982-1984年美國南方大學(xué)電氣工程系訪問學(xué)者，1989-1994年美國西北大學(xué)合作研究量子阱器件和焦平面成像技術(shù)。目前主要研究微光電機(jī)系統(tǒng)（MOEMS）、傳感器與光電成像技術(shù)等，項(xiàng)目主要來自國家高技術(shù)與國家攻關(guān)項(xiàng)目。在從事 CCD的研究中與電子部研究所合作，首次在國內(nèi)取得成功，后開發(fā)成產(chǎn)品；研究紅外CCD注入效率取得理論成果，部分內(nèi)容被國外教材采用，并編入我國出版的《激光與 紅外技術(shù)手冊》。已發(fā)表被 SCI收錄的論文60多篇、被國內(nèi)外文獻(xiàn)引用100多次和發(fā)明專利10余項(xiàng)，獲多項(xiàng) 省部級獎勵和國內(nèi)外專利產(chǎn)品金獎各一項(xiàng)。
