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  • 杜驚雷

    杜驚雷

    杜驚雷杜驚雷出生于1964年9月,現(xiàn)為四川大學(xué)物理學(xué)院教授,博士生導(dǎo)師。1983年南開大學(xué)物理系畢業(yè);1988年于中科院長春光機(jī)所獲理學(xué)碩士學(xué)位;1999年于四川大學(xué)物理系獲理學(xué)博士學(xué)位;與英國盧瑟福實(shí)驗(yàn)室等國外大學(xué)或?qū)嶒?yàn)室開展微光學(xué)、微光刻、微電子等方面學(xué)術(shù)交流、合作研究。他主持或主研國家自然科學(xué)基金、教育部博士點(diǎn)基金、863課題、973子課題、橫向課題等科研項(xiàng)目20余項(xiàng)。已在國內(nèi)外學(xué)術(shù)刊物上發(fā)表論文120余篇,SCI收錄論文數(shù)十篇。主持和主研國家自然科學(xué)基金、863計(jì)劃、博士點(diǎn)基金、中物院基金、國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室基金等資助的國家級和省部級科研項(xiàng)目項(xiàng),均圓滿完成任務(wù)。

    個人履歷

      杜驚雷,男,漢族,1964年9月生,四川大學(xué)物理學(xué)院教授,博士生導(dǎo)師。他現(xiàn)在主要招收衍射光學(xué)方向博士研究生,微電子光學(xué)、光電子器件、光電信號處理方向碩士生。

    研究方向

      其科研工作的主要方向?yàn)椋盒畔⒐鈱W(xué)、微光學(xué)、微電子光學(xué)、光電子器件。

    科研課題

      目前正在進(jìn)行的科研項(xiàng)目有“數(shù)字光刻新技術(shù)研究”(國家自然科學(xué)基金),“厚層光致抗蝕劑光刻術(shù)研究”(國家自然科學(xué)基金),色分離光柵研制(863計(jì)劃)等多項(xiàng)課題。已在國內(nèi)外重要學(xué)術(shù) 刊物上發(fā)表論文60多篇,其中近四十篇被SCI、EI檢索收錄。

    學(xué)術(shù)論文

      近年發(fā)表的部分學(xué)術(shù)論文   Precompensation approach for improving the quality of laser direct writing patterns by a modified proximity function. Optical Engineering, 2000, 39(3): 771-775, SCI, EI   New Approaches to Optical Proximity Correction in Photolithography. Microelectrionic Engineering, 1999, 46: 73-76, SCI, EI   Investigation of phase shift mask distortion effect. Microelectronic Engineering, 2002, 61-62: 265-270, SCI, EI   Enhancement of Photolithography Resolution by Fractional Fourier Domain Filtering. Microelectrionic Engineering,2003,67-68:31-38, EI   Optical Proximity Correction by Grey Tone Photolithography. Microelectrionic Engineering, 2000, 53: 153-156; SCI, EI   Coding Gray-tone Mask for Refractive Microlens Fabrication of arbitrarily shaped microstructures. Opt.Eng. 2003, 42(2):477-481, SCI, EI   Decomposition storage of information based on computer-generated hologram interference and its application in optical image encryption. Applied Optics, 2001, 40(17): 2860-2863 SCI   A fine OPC approach with gray-tone coding mask. SPIE, 1999, 3740: 348-351, EI   Modified proximity function for OPC in laser direct writing. SPIE, 2000, 4000: 1045-1052, EI   New Method to Design Half-tone Mask for the Fabrication of Continuous Micro Relief Structure. SPIE, 1999, 3680: 879-886, EI   Simulation, SPIE, 2003, 4984:111-117, EI   激光直寫鄰近效應(yīng)的校正. 光學(xué)學(xué)報(bào), 1999, 19(7): 953-957,EI   實(shí)現(xiàn)ICF驅(qū)動器諧波分離的二元光學(xué)元件研究. 光學(xué)學(xué)報(bào), 2000, 20(3): 405-409, EI   分?jǐn)?shù)傅里葉變換全息圖及其在防偽中的應(yīng)用. 光學(xué)學(xué)報(bào), 1999, 19(6): 821-825, EI   利用純位相計(jì)算全息圖實(shí)現(xiàn)位相函數(shù)相加的光學(xué)安全技術(shù). 中國激光, 2000, 27(7): 645-648, EI   用波導(dǎo)全息照明器實(shí)現(xiàn)三維漫反射物體全息圖的白光再現(xiàn). 中國激光, 1998, 25(12): 1103-1106, EI   用全息元件實(shí)現(xiàn)變形分?jǐn)?shù)傅立葉變換. 中國激光, 2000, 27(8): 719-723, EI   多重分?jǐn)?shù)傅里葉變換全息防偽術(shù), 中國激光, 2002, 29(8):743-747, EI   亮暗襯線法校正鄰近效應(yīng)及其實(shí)驗(yàn)研究. 激光技術(shù), 2000, 24(4): 213-217, EI   灰階編碼掩模進(jìn)行鄰近效應(yīng)校正的實(shí)驗(yàn)研究. 微細(xì)加工技術(shù), 2000, 2:39-44, EI   位相編碼計(jì)算全息在防偽中的應(yīng)用. 激光雜志, 2000, 21(1): 39-45, EI

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