2003年10月至2004年9月獲日本國(guó)際教育協(xié)會(huì)（AIEJ）短期留學(xué)獎(jiǎng)學(xué)金赴日本東京電氣通信大學(xué)留學(xué)，期間主要從事模式識(shí)別的研究工作。他的研究興趣主要包括模式識(shí)別、機(jī)器學(xué)習(xí)和圖像處理。作為主要研究人員參與了國(guó)家“863計(jì)劃”、國(guó)防“十一五”基礎(chǔ)研究和省部委重點(diǎn)研究等5個(gè)項(xiàng)目的研究工作。他已經(jīng)在《Pattern Recognition》、《Neurocomputing》、《軟件學(xué)報(bào)》、《光學(xué)精密工程》、ICPR等國(guó)際國(guó)內(nèi)期刊和國(guó)際會(huì)議上發(fā)表或錄用論文15篇，其中被SCI收錄論文2篇，EI收錄論文10篇。申請(qǐng)國(guó)家發(fā)明專利4項(xiàng)，實(shí)用新型專利1項(xiàng)，其中已授權(quán)發(fā)明專利1項(xiàng)（第二持證人），實(shí)用新型專利1項(xiàng)（第三持證人）。