基本內(nèi)容
主要從事總裝備部光電子預(yù)研、國(guó)家973、載人航天等重大項(xiàng)目的焦平面器件研制,涉及長(zhǎng)線列及大面陣碲鎘汞焦平面探測(cè)器的制備技術(shù)以及性能研究。研究方向?yàn)榧t外器件物理以及器件工藝技術(shù)。
曾在碲鎘汞材料的組分均勻性全自動(dòng)測(cè)試方法、碲鎘汞微區(qū)低溫光電響應(yīng)光譜測(cè)量、金屬-碲鎘汞界面的系統(tǒng)研究、Si基焦平面器件芯片技術(shù)研究、、大面陣小銦柱技術(shù)以及低能等離子體干法刻蝕碲鎘汞技術(shù)等方面進(jìn)行了研究工作,獲專利4項(xiàng),部級(jí)科技進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)1項(xiàng)。近幾年發(fā)表論文20多篇。培養(yǎng)及合作培養(yǎng)碩士、博士研究生6名。