姓名： 楊成剛

性別：男

出生年月：1965年10月

國(guó)籍：中國(guó)

籍貫：貴州

民族：彝族

身份： 工程師

        楊成剛 男，彝族，大學(xué)本科文化，工程師，1965 年10月生，貴州大方縣人。

       1989年畢業(yè)于貴州大學(xué)物理系半導(dǎo)體物理與器件專業(yè)。

       在校期間，連年被評(píng)為校級(jí)三好學(xué)生。畢業(yè)后，分配到中國(guó)振華電子工業(yè)公司國(guó)營(yíng)第四四三三廠工作，主要從事半導(dǎo)體集成電路和混合集成電路方面的科研工作。進(jìn)廠后，他致力于光刻工藝的研究，采用直接光刻工藝代替機(jī)械掩模蒸發(fā)工藝，進(jìn)行分步光刻選擇刻蝕來形成薄膜無源網(wǎng)絡(luò)，其最小間距或帶寬可達(dá)10um左右，使集成度大大提高，適用于大批量生產(chǎn)，為后來的高尖端新產(chǎn)品的研制和生產(chǎn)奠定了基礎(chǔ)。曾參與該廠軍工器件FX0032超高速FET運(yùn)算放大器、FX0002電流放大器、FX8510功率運(yùn)算放大器、FH8048對(duì)數(shù)放大器、FX3290BiMOS雙電壓比較器等的研制，并取得成功。

        發(fā)表的代表性論文有：《半導(dǎo)體熱敏電阻的溫敏特性在對(duì)數(shù)放大器中的應(yīng)用》《陽(yáng)極氧化鋁工藝在薄膜混合集成電路中的應(yīng)用》《 Ni－Cr薄膜電阻在對(duì)數(shù)放大器中的應(yīng)用》等。

       待發(fā)表的論文有：《FX3290BiMOS雙電壓比較器的研制》《鋁導(dǎo)帶薄膜混合集成電路工藝的研究》等。1995年被貴州省國(guó)防工業(yè)工會(huì)和貴州省國(guó)防科技工業(yè)辦公室評(píng)為“1994年度企業(yè)走向市場(chǎng)立功競(jìng)賽先進(jìn)個(gè)人”榮譽(yù)。