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  • 李劉合

    李劉合

    李劉合,1970年4月出生,男,河南人,博士,北京航空航天大學(xué)機(jī)械學(xué)院材料加工與控制系教授、系主任。


    個(gè)人經(jīng)歷

    學(xué)習(xí)經(jīng)歷

    學(xué)士:90-94年,鄭州大學(xué)(原鄭州工學(xué)院),焊接方法與設(shè)備

    碩士:94-96年,哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料學(xué)

    博士:96-99年,哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料學(xué)

    博士后:99-01,北京航空航天大學(xué),材料加工工程

    李劉合

    工作經(jīng)歷

    2009/07-至今 北京航空航天大學(xué),機(jī)械學(xué)院材料加工與控制系,教授

    2012/08-2013/03 悉尼大學(xué),物理學(xué)院,高級(jí)訪問學(xué)者

    2011/07-2011/09香港城市大學(xué), 應(yīng)用物理及材料,Senior Research Associate

    2009/07-2009/10 香港城市大學(xué), 應(yīng)用物理及材料,Research Fellow

    2001/06_2009/07 北京航空航天大學(xué),機(jī)械學(xué)院材料加工與控制系,副教授

    2007/06-2008/06香港城市大學(xué), 應(yīng)用物理及材料, Senior Research Associate

    2003/07-2005/07上海交通大學(xué),材料學(xué)院,副教授

    2002/11-2003/05 香港城市大學(xué),應(yīng)用物理及材料系,Research associate

    2001/11-2002/05 香港城市大學(xué),應(yīng)用物理及材料系, Research associate

    1999/09-2001/06北京航空航天大學(xué),機(jī)械學(xué)院材料加工與控制系,博士后

    研究領(lǐng)域

    表面工程:全方位離子注入;真空電弧沉積(多弧離子鍍);磁控濺射等先進(jìn)真空薄膜制備方法、工藝、材料

    高效切削刀具:難加工材料的高效切削

    材料先進(jìn)連接技術(shù);

    等離子體表面改性物理及材料、方法、電源及設(shè)備;PVD過程控制

    表面改性膜層材料力學(xué)性能分析及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。

    功能涂層

    主要學(xué)術(shù)

    中國電工技術(shù)學(xué)會(huì)電子束離子束分會(huì)委員

    焊接學(xué)會(huì)堆焊及表面工程分會(huì)委員

    委員機(jī)械工程學(xué)會(huì)高級(jí)會(huì)員

    國際電氣和電子工程師協(xié)會(huì)(IEEE)學(xué)術(shù)期刊《IEEE Transactions on Plasma Science》論文評(píng)審員,

    美國材料研究學(xué)會(huì)MRS期刊《Journal of Materials Research》論文評(píng)審員

    美國Elsevier學(xué)術(shù)期刊《Physics Letter A》、《Surface and Coating Technology》、《Diamond and Related Materials》論文評(píng)審員

    美國AVS冶金涂層與薄膜國際會(huì)議(ICMCTF)論文評(píng)審員

    美國物理學(xué)會(huì)AIP期刊《Journal of Applied Physics》論文評(píng)審員

    Scientific World Journal: Materials Science的編輯委員(Editorial Board)。

    研究方向

    研究主要包括電子聚焦電場(chǎng)增強(qiáng)等離子體離子注入、真空電弧等離子體及其彎曲磁過濾理論與技術(shù)、全方位離子注入膜基界面超高結(jié)合力方法與理論等三個(gè)方向。提出“物理氣相沉積”與“全方位離子注入”相結(jié)合的涂層制備方法。解決了“膜基結(jié)合力、結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、成膜均勻性”三大問題,成功在多家公司、中科院等單位實(shí)現(xiàn)工業(yè)化應(yīng)用。在國際上,提出了一種電子聚焦電場(chǎng)增強(qiáng)的等離子體基離子注入(Enhanced Glow Discharge Plasma Immersion Ion Implantation: EGD-PIII)新方法。提出無輔助陽極彎管過濾理論。成功解釋了靜態(tài)電、磁場(chǎng)作用下真空陰極弧斑的反洛倫茨力“后退”的機(jī)理,建立了彎曲電弧等離子體輸運(yùn)模型。發(fā)明了智能監(jiān)聽與引弧穩(wěn)弧系統(tǒng)、發(fā)明了利用磁場(chǎng)奇點(diǎn)燃弧,利用切向磁場(chǎng)傳輸?shù)母咝铍娀澢^濾系統(tǒng),研究了高效帶狀等離子彎曲過濾機(jī)理。

    負(fù)責(zé)完成過(或正在進(jìn)行)國家重大專項(xiàng)(04專項(xiàng))、國防科技預(yù)研、武器裝備預(yù)研、國家自然科學(xué)基金、北京市科技計(jì)劃重點(diǎn)項(xiàng)目、等項(xiàng)目的研究工作。申請(qǐng)并獲得國內(nèi)外發(fā)明專利10余項(xiàng),獲得美國專利3項(xiàng),中國7項(xiàng),發(fā)表研究論文170余篇,SCI檢40余篇,EI+ISTP檢50余篇。主持及參與項(xiàng)目10余項(xiàng),其中國家自然科學(xué)基金3項(xiàng)(主持2項(xiàng))。

    獎(jiǎng)勵(lì)情況

    獲上海市科學(xué)技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)1項(xiàng)(排名3);

    教育部新世紀(jì)優(yōu)秀人才1項(xiàng);

    北京市優(yōu)秀人才1項(xiàng);

    北航教學(xué)成果獎(jiǎng)三等獎(jiǎng)1項(xiàng)。

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