楊鐵三 男，1936年8月生。高級(jí)工程師。畢業(yè)于哈爾濱工業(yè)大學(xué)。曾任職于中國(guó) 科學(xué)院電工所。中國(guó)電工技術(shù)學(xué)會(huì)會(huì)員。參加國(guó)防科委重點(diǎn)項(xiàng)目“光電跟蹤線切割機(jī)床”研 制，獲全國(guó)科學(xué)大會(huì)獎(jiǎng)，參加北京市重點(diǎn)項(xiàng)目“毫米離子注入機(jī)”研制獲全國(guó)科學(xué)大會(huì)獎(jiǎng)； 負(fù)責(zé)“型腔模電加工機(jī)床”研制，獲中科院重大成果獎(jiǎng)，負(fù)責(zé)“電子束投影曝光技術(shù)”研制 ，屬國(guó)內(nèi)先進(jìn)；負(fù)責(zé)“受控電弧離子鍍膜設(shè)備和技術(shù)”研制，獲中科院重要成果獎(jiǎng)，屬國(guó)內(nèi)先進(jìn)水平；“碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝”獲國(guó)家發(fā)明專利，為第一發(fā)明人。