基本內(nèi)容
楊鐵三 男,1936年8月生。高級工程師。畢業(yè)于哈爾濱工業(yè)大學。曾任職于中國 科學院電工所。中國電工技術(shù)學會會員。參加國防科委重點項目“光電跟蹤線切割機床”研 制,獲全國科學大會獎,參加北京市重點項目“毫米離子注入機”研制獲全國科學大會獎; 負責“型腔模電加工機床”研制,獲中科院重大成果獎,負責“電子束投影曝光技術(shù)”研制 ,屬國內(nèi)先進;負責“受控電弧離子鍍膜設(shè)備和技術(shù)”研制,獲中科院重要成果獎,屬國內(nèi)先進水平;“碳氮化鈦系列鍍層離子鍍工藝”獲國家發(fā)明專利,為第一發(fā)明人。