畢業(yè)于成都電子科技大學。曾任職于長沙韶光微電子總公司鉻版廠。現(xiàn)任職于深圳馬斯克真空技術有限公司。主要貢獻：專業(yè)特長為光掩模鉻版成膜技術。在一九一八研究所工作期間，擔任第二研究室攻關組長，主持研制集成電路高可靠薄膜內引線及封裝工藝，為研制多種高可靠集成電路奠定了技術基礎，確保三抓工程任務的完成。在鉻版廠的工作，主要成績有兩項，一是由引進時的一個品種二個規(guī)格，經幾年的努力，發(fā)展到三個品種六個規(guī)格，使IC生產用鉻版系列化；是提出"中心值控制法"，使成膜成品率由85%提高到95%。浙江紹興真空電子公司建成以厚膜網絡為基礎的VFD生產線，不能適應VCD的發(fā)展形勢，于1995-1996年研制成該公司急需的VFD薄膜網絡，填補國內空白，使該公司順利生產VCD用顯示器件，并為該公司薄膜型VFD生產線引進及建設打下技術基礎。近幾年，顯示器件（包括LCD、PDP及VFD）飛速發(fā)展，這些產品的生產都需要大面積光掩模鉻版。已完成成膜工藝的研制，并在馬斯克公司參與大面積標準型光掩模鉻版生產線的建設。