畢業(yè)于成都電子科技大學(xué)。曾任職于長沙韶光微電子總公司鉻版廠�，F(xiàn)任職于深圳馬斯克真空技術(shù)有限公司。主要貢獻：專業(yè)特長為光掩模鉻版成膜技術(shù)。在一九一八研究所工作期間，擔(dān)任第二研究室攻關(guān)組長，主持研制集成電路高可靠薄膜內(nèi)引線及封裝工藝，為研制多種高可靠集成電路奠定了技術(shù)基礎(chǔ)，確保三抓工程任務(wù)的完成。在鉻版廠的工作，主要成績有兩項，一是由引進時的一個品種二個規(guī)格，經(jīng)幾年的努力，發(fā)展到三個品種六個規(guī)格，使IC生產(chǎn)用鉻版系列化；是提出"中心值控制法"，使成膜成品率由85%提高到95%。浙江紹興真空電子公司建成以厚膜網(wǎng)絡(luò)為基礎(chǔ)的VFD生產(chǎn)線，不能適應(yīng)VCD的發(fā)展形勢，于1995-1996年研制成該公司急需的VFD薄膜網(wǎng)絡(luò)，填補國內(nèi)空白，使該公司順利生產(chǎn)VCD用顯示器件，并為該公司薄膜型VFD生產(chǎn)線引進及建設(shè)打下技術(shù)基礎(chǔ)。近幾年，顯示器件（包括LCD、PDP及VFD）飛速發(fā)展，這些產(chǎn)品的生產(chǎn)都需要大面積光掩模鉻版。已完成成膜工藝的研制，并在馬斯克公司參與大面積標準型光掩模鉻版生產(chǎn)線的建設(shè)。