基本內(nèi)容
主要學(xué)術(shù)成果:“多晶尾氣綜合利用”獲上?萍歼M(jìn)步一等獎(jiǎng),“HP系列硅片拋光劑及工藝”獲國(guó)家發(fā)明二等獎(jiǎng);“優(yōu)質(zhì)硅片拋光技術(shù)”獲上?萍歼M(jìn)步二等獎(jiǎng);“硅片拋光BS技術(shù)”獲全國(guó)發(fā)明金牌獎(jiǎng),《硅片 HE拋光技術(shù)》獲中國(guó)發(fā)明專利、國(guó)際發(fā)明銀牌獎(jiǎng)。在省市以上刊物發(fā)表論文38篇,其中一級(jí)學(xué)報(bào)刊6篇,國(guó)際學(xué)術(shù)會(huì)3篇。編著出版《半導(dǎo)體材料》等著作8冊(cè),計(jì)130萬(wàn)字。其中《硅片拋光》論文在第169屆國(guó)際電化學(xué)年會(huì)上選為大會(huì)宣講并發(fā)表在1986年《半導(dǎo)體硅》專著上。這是我國(guó)電子材料在國(guó)際重大學(xué)術(shù)會(huì)議和該著名專著上全文發(fā)表的第一篇論文,業(yè)績(jī)載入《中國(guó)發(fā)明家大辭典》和《當(dāng)代發(fā)明家》等書(shū)。系中國(guó)(上海)發(fā)明協(xié)會(huì)、電子學(xué)會(huì)、半導(dǎo)體學(xué)會(huì)、冶金學(xué)會(huì)會(huì)員。