人物經(jīng)歷
1982年考入中國科技大學(xué)物理系，1987年畢業(yè)于中國科技大學(xué)物理系。
1992年進(jìn)入德國Kaiserslautern大學(xué)物理學(xué)專業(yè)學(xué)習(xí)，1997年獲博士學(xué)位。
1997－1998，在德國 IFOS 研究所進(jìn)行博士后工作。
1998年入選中科院“百人計(jì)劃”。
2018年4月，參加河北衛(wèi)視《我中國少年》智力競(jìng)技節(jié)目。
社會(huì)任職
現(xiàn)任中國科學(xué)院物理所研究員，博士生導(dǎo)師，課題組長，《物理》雜志專欄撰稿人, 科技部“973”納米材料項(xiàng)目首席科學(xué)家，英國物理學(xué)會(huì)亞太網(wǎng)科學(xué)顧問，中國科技大學(xué)物理系等校兼職教授。
研究方向
薄膜的生長與機(jī)理；新材料探索；表面的電子能譜掃描探針譜分析；固體表面的原子過程與修飾；納米結(jié)構(gòu)發(fā)光與器件；脈沖電子束薄膜沉積技術(shù)，微結(jié)構(gòu)與量子力學(xué)。
目前從事工作包括
復(fù)合納米硅體系的發(fā)光；寬禁帶化合物半導(dǎo)體設(shè)計(jì)；SiC外延薄膜生長；貴金屬氮化物熱穩(wěn)定性設(shè)計(jì)與合成；應(yīng)力驅(qū)動(dòng)微結(jié)構(gòu)的自組織；微重力現(xiàn)象等。
主要成果
科學(xué)研究
長期從事低能離子同固體表面的相互作用，薄膜生長機(jī)理和表面電子譜學(xué)與掃描探針譜學(xué)方面的研究以及超硬透明導(dǎo)電材料探索。
首次給出離子轟擊誘導(dǎo)深度輪廓的演化方程，發(fā)展了一套俄歇譜濺射深度輪廓技術(shù)。
系統(tǒng)研究了（等）離子束輔助生長參數(shù)對(duì)輕元素化合物薄膜生長過程和性質(zhì)的影響，在寬禁帶半導(dǎo)體材料如 SiCN，AlCN，BCN的設(shè)計(jì)方面獲得一批成果。
率先實(shí)現(xiàn)了納米硅復(fù)合薄膜體系的可見光全譜發(fā)光，目前已把納米硅顆粒的尺寸和密度都推至物理極限，最小波長為428nm，外量子效率超過3%，衰減時(shí)間小于納秒。
自行設(shè)計(jì)研制了多功能UHV鍍膜系統(tǒng)，電子回旋共振波等離子體薄膜生長系統(tǒng)和脈沖電子束薄膜沉積系統(tǒng)。利用曲面上應(yīng)力驅(qū)動(dòng)自組織首次在微觀世界里實(shí)現(xiàn)Fibonacci Spiral Patterns，并實(shí)現(xiàn)了手性的控制。在貴金屬氮化物薄膜中首次發(fā)現(xiàn)微米級(jí)五次對(duì)稱的浮雕式形貌，并獲得了在200K溫區(qū)內(nèi)為零的電阻溫度系數(shù)。
學(xué)術(shù)論著
在PRL，APL， PNAS，Science等國際重要雜志上撰寫研究論文60余篇。
另撰寫中文物理學(xué)教育/隨感50多篇,英文專著章節(jié)2個(gè)。
現(xiàn)在在《物理》雜志開設(shè)“物理學(xué)咬文嚼字”專欄。
開設(shè)過系列講座“經(jīng)典力學(xué)－從思想起源到現(xiàn)代進(jìn)展”和“一個(gè)初學(xué)者關(guān)于量子力學(xué)的思考”。
榮譽(yù)記錄
2019年1月，曹則賢獲2018中國科學(xué)年度新聞人物科技傳播者獎(jiǎng)。
