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  • 陳星弼

    陳星弼

    陳星弼(1931.1.28-),出生于上海。微電子學(xué)家。教授,博士生導(dǎo)師,1999年當選為中國科學(xué)院院士。2001年加入九三學(xué)社。

    1952年畢業(yè)于同濟大學(xué),后在廈門大學(xué)、南京工學(xué)院及中國科學(xué)院物理研究所工作。1956年開始在成都電訊工程學(xué)院工作。1980年美國俄亥俄州大學(xué)作訪問學(xué)者。1981年加州大學(xué)伯克萊分校作訪問學(xué)者、研究工程師。1983年任電子科技大學(xué)微電子科學(xué)與工程系系主任、微電子研究所所長。

    他著書7本,發(fā)表學(xué)術(shù)論文110多篇,申請中國發(fā)明專利20項(已授權(quán)17項),申請美國發(fā)明專利19項(已授權(quán)16項,另有兩項已通知準備授權(quán)),申請國際發(fā)明專利1項。獲國家發(fā)明獎及科技進步獎2項,省部級獎勵13項,完成國家自然科學(xué)基金重點項目、軍事研究項目、國家“八五”科技攻關(guān)項目多項。


    人物經(jīng)歷

    1931年1月28日,陳星弼出生在一個官宦之家,祖籍浙江省浦江縣青塘鎮(zhèn)。祖父曾為清朝武舉人,父親陳德征因家庭貧窮靠勤工儉學(xué)就讀于杭州之江大學(xué)化學(xué)系。母親徐呵梅是浙江余姚人,由于小時聰穎過人,外祖父不僅特許不纏小腳,還允許讀書,直至進入上海大學(xué)讀文學(xué)。五四運動時,陳星弼的父親成了杭州學(xué)生領(lǐng)袖之一,從此進入政界,也曾算得一個紅人。但不久得罪于蔣介石,被摘了烏紗帽,且被軟禁。這時陳星弼出生了,因此取有小名“難兒”。陳星弼3歲時,眼見哥哥姐姐上學(xué),吵嚷著要讀書,居然獲得特許,進了小學(xué)。此后,父母年年勸其留級,他卻能堅持著學(xué)下去。6歲時,日寇侵華烽火蔓至上海,他隨父母先遷至余姚,后又至浦江,最后輾轉(zhuǎn)到重慶。不久,為躲避日機轟炸,舉家遷到合川。他從8歲開始就離家在鄉(xiāng)下小學(xué)住宿,養(yǎng)成了能吃苦和獨立生活的習慣,也深受抗日救國的思想教育。

    小學(xué)畢業(yè)時,他成績名列前茅。抗戰(zhàn)時生活極為艱苦,他也曾想停止讀正規(guī)學(xué)校,早點謀出路。但父親因宦海沉浮之經(jīng)歷,堅持讓他繼續(xù)讀書,學(xué)到科學(xué)技術(shù)而為國家做實事。再加上他一直進的是國立中學(xué),包括生活費在內(nèi)一概公費,因此沒有中斷學(xué)習。

    家庭對他最大的影響是,學(xué)問必須靠自己努力取得。當抗戰(zhàn)勝利第二年他從內(nèi)地轉(zhuǎn)讀上海敬業(yè)中學(xué)時,許多功課都很吃力。但有一天教物理的居小石老師突然向全班說:“你們都應(yīng)該向陳星弼學(xué)習。他的習題明顯都是自己一人做的。不管做得錯或?qū),都有他特別的做法,而且愈做愈好!彼鼓勵陳星弼一輩子要做傻瓜(老實人)。老師的這些話使陳星弼受用一輩子。

    1947年,他考取了同濟大學(xué)電機系,并獲得獎學(xué)金。他的學(xué)習從來不拘一格。人在電機系,卻去旁聽物理系及機械系的課,而工程力學(xué)及畫法幾何又學(xué)得比電機系的主要課程還好。他學(xué)過小提琴,而且能背出許多古典交響樂的曲譜。他也看過唯心主義的哲學(xué)書籍,以致在新中國成立后他經(jīng)過一番艱難思想斗爭才接受了唯物主義。他對別人說,他相信自己的唯物主義思想比較牢固,因為這是經(jīng)過斗爭得來的。

    1952年畢業(yè)于同濟大學(xué)電機系。電子科技大學(xué)教授。

    陳星弼

    1952年大學(xué)畢業(yè)后,他被分配到廈門大學(xué)電機系當助教。第二年,遇二次院系調(diào)整,轉(zhuǎn)到南京工學(xué)院無線電系。在那里,他輔導(dǎo)了幾年電工基礎(chǔ)課。

    1956年,黨中央號召向科學(xué)進軍。當時他已被指定到新成立的成都電訊工程學(xué)院(簡稱“成電”,現(xiàn)電子科技大學(xué))去工作,同時也給了他進修新學(xué)科的機會。他選擇了到中國科學(xué)院應(yīng)用物理研究所進修半導(dǎo)體。這一決定確定了他以后的發(fā)展方向。他在該所兩年半的時間內(nèi),一邊工作,一邊自學(xué)了從物理系四大力學(xué)到半導(dǎo)體有關(guān)的專業(yè)課,寫出了當時才出現(xiàn)的漂移晶體管中關(guān)于存儲時間的論文。該文后來出現(xiàn)在Prichard著書的參考文獻中,由此可知是該方面最早的工作。

    1959年,他回到成電。改革開放前,由于家庭出身原因,他始終是受命去教書。他認為要教好書,不僅要把所教內(nèi)容融會貫通,還要考慮學(xué)生如何能最好地接受。他甚至為講一句話或一段話都要事先琢磨很久。因此他上課時不需講稿,只帶一張香煙盒大小的紙,寫一點備忘綱要即可,他的教課深受學(xué)生稱道。教書也使他自己打下了更好的科學(xué)基礎(chǔ)。

    1970年,國家電視攻關(guān)中,他被派往工廠支援研制氧化鉛攝像管,得知國外已研制硅靶攝像管,建議研制這種新攝像管并獲四機部批準。但是好景不長,才初見該管可出圖像,他就被首批點名去五七干校勞動,直至愛人病發(fā)而調(diào)回。

    1980年,他被派往美國俄亥俄州大學(xué)做訪問學(xué)者,但因?qū)I(yè)不吻合,于1981年初轉(zhuǎn)到加州大學(xué)伯克利點校,開始進行新型半導(dǎo)體功率器件的研究。1983年回國后被選為系主任,不久建立了微電子研究所。他為了國家及本單位的需要,徹底放棄了從事基礎(chǔ)物理的念頭,以MOS型功率器件為主要研究方向。在他率領(lǐng)下,在中國首次研制了VDMOST、IGBT、LDMOST、MCT、EST等器件并開發(fā)了相關(guān)技術(shù)。

    1980年美國俄亥俄州大學(xué)作訪問學(xué)者。

    1981年加州大學(xué)伯克萊分校作訪問學(xué)者、研究工程師。

    1983年任電子科技大學(xué)微電子科學(xué)與工程系系主任、微電子研究所所長。曾先后被聘為加拿大多倫多大學(xué)電器工程系客座教授,英國威爾斯大學(xué)天鵝海分校高級客座教授。

    1993年后,他從事功率集成電路的研究。在10年前有人提出過將半導(dǎo)體微電子電路與功率器件同時做在一塊芯片上會帶來容易實現(xiàn)各種保護及控制的好處。由于世界上有近四分之三的電能是通過半導(dǎo)體功率器件來轉(zhuǎn)換其形式后才可以使用的,因此國外有人預(yù)言做在一塊芯片上會引起所謂“第二次電子革命”。它和集成電路的發(fā)展引起的信息時代的到來——又被稱做第一次電子革命,有同樣的重要性。但是國際上制造的功率集成電路采用了復(fù)雜的工藝,而且電學(xué)性能不夠好,造成其性能價格比甚低,從而第二次電子革命的進展甚慢。他的兩個表面耐壓層結(jié)構(gòu)的新發(fā)明解決了在普通集成電路上做功率器件的問題,不僅制造功率器件的工藝與普通集成電路的工藝全兼容,而且所做功率器件電學(xué)性能特別優(yōu)良,阻礙第二次電子革命迅速發(fā)展的桎梏也將會因此而被打破。他最大的希望是這個成就在中國開花結(jié)果,使中國在該領(lǐng)域居于世界領(lǐng)先的地位。

    1999年當選中國科學(xué)院院士。5月10日至14日,功率半導(dǎo)體領(lǐng)域最頂級的學(xué)術(shù)年會——第二十七屆國際功率半導(dǎo)體器件與集成電路年會(IEEE ISPSD 2015)在中國香港舉行。我校陳星弼院士因?qū)Ω邏汗β蔒OSFET理論與設(shè)計的卓越貢獻獲得大會頒發(fā)的最高榮譽“國際功率半導(dǎo)體先驅(qū)獎”(ISPSD 2015 Pioneer Award),成為亞太地區(qū)首位獲此殊榮的科學(xué)家。

    五十年代末,對漂移晶體管的存貯時間問題在國際上最早作了系統(tǒng)的理論分析。提出新的電荷法基本方程、不均勻介質(zhì)中鏡象電荷方程等。八十年代以來,從事半導(dǎo)體電力電子器件的理論與結(jié)構(gòu)創(chuàng)新方面的研究。從理論上解決了提高p- n結(jié)耐壓的平面及非平面工藝的終端技術(shù)問題,作出了一些迄今唯一的理論分析解。在解決MOS功率管中降低導(dǎo)通電阻與提高耐壓之間的矛盾問題上作出了系列重要貢獻。發(fā)明了耐壓層的三種新結(jié)構(gòu),提高了功率器件的綜合性能優(yōu)值,其中橫向耐壓層新結(jié)構(gòu)在制備工藝上與常規(guī)CMOS和BiCMOS工藝兼容,有利于發(fā)展耐高壓的功率集成電路。1999年當選為中國科學(xué)院院士。

    主要成就

    主要論著

    陳星弼著 南京:東南大學(xué)出版社出版日期:1990

    1陳星弼,關(guān)于半導(dǎo)體漂移三極管在飽和區(qū)工作時的儲存時間問題,物理學(xué)報,1959,15(7 ):353~367。

    2陳星弼,一維不均勻介質(zhì)中的鏡像法,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報,1963,4(3):76~84。

    3陳星弼,表面復(fù)合對半導(dǎo)體中非平衡載流子漂移及擴散的影響,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報, 1963,4,100。

    4陳星弼、易明光,論晶體管中電荷控制法的基礎(chǔ),第二屆四川省電子學(xué)會年會論文集, 1964,168~185。

    5陳星弼,小注入下晶體管IC-VBE特性的指數(shù)因子的研究,物理學(xué)報,1978,2(1):10~ 21。

    6Xingbi Chen,Chenming Hu,Optimum Doping Profiles of Power MOSFETs Epitaxial Layer,IEEE TransO(jiān)n Electron Devices,1982,ED-29(6):985~987.

    7XBChen,Best Uniform Surface Doping in the Drift Region of Offset-Gate Power MOSFETs With Deep Junctions,Procof International Semiconductor and Integrated Circuit Technology,1986,383~385.

    8陳星弼,P-N+結(jié)有場板時表面電場分布的簡單表示式,電子學(xué)報,1986,14(1):36~43 。

    9陳星弼、蔣旭,突變平面結(jié)表面電場的近似公式,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報,1986,15(3) :34~40。

    10XBChen,ZQSong,ZJLi,Optimization of the Drift Region of Power MOSFETs with Lateral Structures and Deep Junctions,IEEE Transon Electron Devices,1987,ED-34(11),2344~2350.

    11陳星弼,場限環(huán)的簡單理論,電子學(xué)報,1988,16(3):6~9。

    12XBChen,ZJLi,XJiang,TwoDimensional Numerical Analysis of Field Profiles in HighVoltage Junction Devices,Chinese Journal of Semiconductor,1988,9( 2),181~187.

    13陳星弼、李肇基、蔣旭,高壓半導(dǎo)體器件電場的二維數(shù)值分析,半導(dǎo)體學(xué)報,1988,9(3 ):255~260。

    14陳星弼、楊功銘,橫向結(jié)構(gòu)結(jié)深功率MOSFET漂移區(qū)的優(yōu)化設(shè)計,微電子學(xué),1988。

    15陳星弼,表面電荷對具有場限環(huán)的P+-N結(jié)電場及電位分布的影響,電子學(xué)報,1988,16 (5):14~19。

    16陳星弼、李肇基、宋志慶,高壓半導(dǎo)體器件電場的二維數(shù)值分析,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報 ,1988,17(1):46~53。

    17Chen Xingbi,Li Zhaoji,Li Zhongmin,On Breakdown Voltage of Abrupt Junction with Cylindric Edges,Chinese Journal of Semiconductors,1989,10(2):233~ 237.

    18陳星弼、李肇基、李忠民,關(guān)于圓柱邊界突變結(jié)的擊穿電壓,半導(dǎo)體學(xué)報,1989,10(6 ):463~466。

    19Chen Xingbi,A Theory of Floating Field-Limiting Rings Regarding the Effect of Surface Charges,Acta Electronics Sinica,Supplement,1989,105~111.

    20Chen Xingbi,Analysis and Design Guidelines of JTTs Used in Planar Technology,Proc.of ICSICT’89會議特邀報告,1989,456~458.

    21陳星弼,功率MOS及HVIC的進展,第六屆全國半導(dǎo)體集成技術(shù)與硅材料學(xué)術(shù)年會特邀報告 ,1989。

    22Chen Xingbi,A Simple Description of Diffused Impurity Distribution of an Instantaneous Source Through a Window of a Mask,Proc,of ICSICT’98,1989,241~ 243.

    23Chen Xingbi,Li Zhaoji,Li Zhongmin,Field Profiles and Breakdown Voltages of Elliptic Cylindric Abrupt Junction,Procof ICSCT’98,1989,459~461.

    24陳星弼,MOS型功率器件,電子學(xué)報,1990,18(5):97~105。

    25Xingbi Chen,Power MOST and Merged Devices,Procof Congress of German Chinese Electronics,BerlinO(jiān)ffenbach,1991,339~345.

    26陳星弼,結(jié)終端技術(shù),第七屆全國半導(dǎo)體集成技術(shù)與硅材料學(xué)術(shù)年會特邀報告,1991, 5~6。

    27XBChen,BZhang,ZJLi,Theory of Optimum Design of ReverseBiased p n Junctions Using Resistive Field Plates and Variation Lateral Doping,Solid State Electronics,1992,35(9):1365~1370.

    28陳星弼、曾軍,擴散平面結(jié)反偏壓下的電場分布與擊穿電壓,電子科技大學(xué)學(xué)報,1992, 21(5):491~499。

    29陳星弼,半導(dǎo)體器件與微電子學(xué)的發(fā)展動向,當代電子,四川省電子學(xué)會主編,1992,84 ~94。

    30XBChen,PAMawby,CATSalama,MSTowers,JZeng,KBoard,Latera l HighVoltage Devices Using an Optimized Variational Lateral Doping,IntJ Electronics,1996,80(3),449~459.

    31Xingbi Chen,KO(jiān)Sin,Min Zhang,Bin Wang,An Analytical Model for Electric Field Distribution of Positively Beveled Abrupt PN Junctions,IEEE TransElectron Devices,1997,ED-44,5:869~873.

    32陳星弼,用于靈巧功率集成電路的創(chuàng)新型橫向器件,第二屆中國西部地區(qū)微電子技術(shù)年會 論文集(四川、 重慶、 廣西、 甘肅、 云南六地市),1998,1~7。

    33Chen Xingbi,Theory of a Novel Voltage Sustaining (CB) Layer for Power Devices,Chinese Journal of Electronics,1998,7( 3),211~216.

    34XBChen,PAMawby,KRoad,CATSalama,Theory of a Novel Voltage Sustaining Layer for Power Devices,Microelectronics Journal,1998,29 (12):1055~1011.

    35陳星弼、葉永萌,對高等學(xué)校人才培養(yǎng)的思考和看法,電子高教研究,1998,2、3,13~ 15。

    36Xingbi Chen,Breakthrough to the Silicon Limit of Power Devices (Invite Paper),5th International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology Proceedings, IEEE Press,1998,141~144.

    37陳星弼、葉星寧、唐茂成、王新、蘇秀娣、單成國,新型CMOS全兼容二極管,電子科技大 學(xué)學(xué)報,1999。

    38Xingbi Chen,Xin Wang,KO(jiān)Sin,A Novel HighVoltage Sustaining Structure with Buried Oppositely Doped Regions,IEEE Transon Electron Devices,2000,ED- 47(6):1280~1285.

    39Chen Xingbi,Optimum Design Parameters for Different Patterns of CBStructure,Chinese Journal of Electronics,2000,9,(1):6~11.

    40陳星弼,由半導(dǎo)體微電子技術(shù)引起的第一次電子革命及第二次電子革命,電子科技大學(xué)學(xué) 報社科版,2000,2(2):20~25。

    41陳星弼,第一次電子革命及第二次電子革命,微型電腦應(yīng)用,2000,16(8)。

    42陳星弼,科技為本 創(chuàng)新為魂——由半導(dǎo)體技術(shù)引起的重大革命,世界電子元器件,2000 。

    43陳星弼、蒲慕名、張瑞敏、車俊、尚選玉、于慶成、杜彭,我的創(chuàng)新與財富觀,中國青年 科技,2001。

    44Xingbi Chen,KO(jiān)Sin,Optimization of the Specific OnResistance of the COOLMOS,IEEE Transon Electron Devices,2001,ED-48(2):344~348.

    45Chen Xingbi,Theory of the Switching Response of CBMOST,Chinese Journal of Electronics,2001,10( 1):1~6.

    46Chen Xingbi,Fan Xuefeng,Optimum VLD Makes SPIC Better and Cheaper,Procof ICSICT’2001,104~108.

    47Xingbi Chen,Hongqiang Yang,Min Cheng,New Silicon Limit of Power Devices,Solid-State Electronics,2002,46:1185~1192.

    48陳星弼,由半導(dǎo)體微電子技術(shù)引起的第一次電子革命及第二次電子革命,第十六屆全國電 源技術(shù)年會,2005,32~36。

    49陳星弼,超結(jié)器件,電力電子技術(shù),2008,42(12)。

    50Chen Xingbi,Huang Mingmin,A Vertical Power MOSFET with an Interdigitated Drift Region Using High-k Insulator,IEEE Transactions on Electron Devices,2012 ,59 (9), 2430~2437.

    教學(xué)成果

    陳星弼任教四十多年來,教過多種課。他親自教過及培養(yǎng)過近千名的學(xué)生,普遍反映受影響最深,他對學(xué)生要求嚴格。這些至今有口皆碑。他公開出版五本書,不少書迄今仍是許多大學(xué)的教材。

    學(xué)術(shù)論述

    1 OptimizationoftheDriftRegionofPowerMOSFET`swithLateralStructuresandDeepJunctions

    2 一維不均勻媒質(zhì)中的景象法

    3 小注入下晶體管Ic-V_be特性的指數(shù)因子的研究

    4 論晶體管電荷控制法的基礎(chǔ)

    5 關(guān)于圓柱邊界突變結(jié)的擊穿電壓

    6 關(guān)于半導(dǎo)體漂移三極管在飽和區(qū)工作的儲存時間問題

    7 TheoryoftheSwitchingResponseofCBMOST

    8 Theoryofoptimumdesignofreverse-biasedp- njunctionssuingresistivefieldplatesandvariationlateraldoping

    9 OptimumVLDmakesSPICBetterandCheaper

    10 OptimumDopingProfileofPowerMOSFETEpitaxialLayer

    11 OptimumDesignParametersforDifferentPatternsofCB-Structure

    12 OptimizationoftheSpecificOn-ResistanceoftheCOOLMOS~TM

    13 New“siliconlimit”ofpowerdevices

    14 Lateralhigh-voltageusinganoptimizedvariationallateraldoping

    15 Breakthroughtothe“Siliconlimit”ofPowerDevices

    16 Analysisanddesignguidelinesofjit`susedinplanartechnology

    17 AnAnalyticalModelforElectricFieldDistributionofPositivelyBeveledAbruptPNJunctions

    18 ATheoryofFloatingField-LimitingRingsRegardingtheEffectofSurfaceCharges

    19 Asimpledescriptionofdiffusedimpuritydistributionofaninstantaneoussourcethroughawindowofamask

    20 ANovelHigh-VoltageSustainingStructurewithBuriedOppositelyDopedRegions

    研究成果

    陳星弼在新型功率(電力電子)器件及其集成電路這一極其重要領(lǐng)域中,做出了一系列重要的貢獻與成就。他率先在中國提出立項并作為第一主研完成了VDMOST、IGBT、Offset-GateMOST、LDMOST、SPIC及RESURF、SIPOS等器件及有關(guān)技術(shù)。他對垂直型功率器件耐壓層及橫向型功率器件的表面耐壓區(qū)唯一地作出了優(yōu)化設(shè)計理論且得到實際應(yīng)用。對功率器件的另一關(guān)鍵技術(shù)——結(jié)終端技術(shù)——作出了系統(tǒng)的理論分析及最優(yōu)化設(shè)計方法并應(yīng)用在各種電力電子器件的設(shè)計中取得良好的效果。他還提出了斜坡場板這一新結(jié)構(gòu)的理論。他的三項重要發(fā)明能使電力電子器件在一個新的臺階上發(fā)展。這些發(fā)明打破了傳統(tǒng)極限理論的約束,使器件的電學(xué)性能得到根本性的改進。第一種第二種發(fā)明突破了高速功率MOS高壓下導(dǎo)通電阻極限理論,得到新的極限關(guān)系。第一種發(fā)明被Siemens公司實現(xiàn),98年在國際電子器件會議(舊金山)發(fā)表。第二種發(fā)明及第三種發(fā)明已在國內(nèi)實驗成功。根據(jù)第三種發(fā)明來制造高壓(功率)集成電路中的橫向器件,可以在工藝上和常規(guī)的CMOS及BiCMOS工藝兼容,使這種電路不僅性能優(yōu)越,而且成本節(jié)省,可立足國內(nèi),并正在走向產(chǎn)品開發(fā)。他作為唯一(或第一)作者(或主研)已在IEEE等學(xué)術(shù)刊物發(fā)表論文40多篇,出版著作五種(六冊),取得美國及中國發(fā)明專利權(quán)七項,獲得國家發(fā)明獎及國家科技進步獎二項,省部級獎十三項。

    獲獎記錄

    陳星弼還負責過“八五”國家科技攻關(guān)重點項目、國家自然科學(xué)基金重點項目、國防科工委及各種省部級項目近20項,其中,兩項獲美國發(fā)明專利,三項獲中國發(fā)明專利獎,兩項獲國家發(fā)明獎及科技進步獎,13項獲國家教委及省部級獎。1999年,陳星弼當選為中科院院士。

    1991年起享受國務(wù)院特殊津貼,1997年被電子工業(yè)部授予優(yōu)秀教師獎項,1998年被評為全國優(yōu)秀教師、四川省學(xué)術(shù)技術(shù)帶頭人、成都市勞模。

    社會任職

    他是中國電子學(xué)會會士,美國IEEE高級會員,中國國家自然科學(xué)基金評審員,美國紐約科學(xué)院(并入選其出版的世界名人錄Marquisswhointheworld”中),半導(dǎo)體學(xué)報編委,中國電子學(xué)會半導(dǎo)體與集成技術(shù)委員會委員,中國電子學(xué)會四川省分會理事兼半導(dǎo)體與集成技術(shù)分會主任委員,曾連續(xù)擔任國際SSICT程序委員及分會主席及一屆中德友好電子周分會主席。

    陳星弼是中國電子學(xué)會會員,美國IEEE高級終身會員,

    人物評價

    陳星弼教授是中國電子學(xué)會會士、美國IEEE高級會員。多次出訪國外進行科技學(xué)術(shù)交流。他熱愛祖國、忠誠黨的教育事與科學(xué)事業(yè)。學(xué)識淵搏、治學(xué)嚴謹、工作刻苦。有堅實的基礎(chǔ)理論,能及時抓住新方向,很快深入,既能發(fā)現(xiàn)問題有能解決問題。

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      陳慶宣(1916年4月4日—2005年10月2日),出生于湖北黃陂,中國民主同盟盟員,中國著名地質(zhì)力學(xué)家,中科院院士,國土資源部地質(zhì)力學(xué)研究所研究員。1...
    • 陳慰峰
      陳慰峰(1935-2009)男,漢族,上海市人,1935年10月22日出生于上海市,1953年至1958年就讀于北京醫(yī)學(xué)院醫(yī)療系,畢業(yè)后留校任微生物學(xué)教研室助教、...
    • 陳新滋
      香港浸會大學(xué)遴選新任校長2009年10月19日揭盅。浸大校董會正式任命現(xiàn)任理工大學(xué)副校長陳新滋教授為下任校長,接替于2010年6月底退休的吳清輝。陳將...
    • 陳曉亞
      研究員、博士生導(dǎo)師。中國科學(xué)院上海生命科學(xué)研究院植物生理生態(tài)研究所研究員。1955年出生于江蘇揚州。1982年畢業(yè)于南京大學(xué)生物學(xué)系,1985年在英國...
    • 陳洪淵
      陳洪淵,分析化學(xué)家,1937年12月出生,1961年畢業(yè)于南京大學(xué)化學(xué)系,2001年當選為中國科學(xué)院院士。陳洪淵在電分析化學(xué)基礎(chǔ)與應(yīng)用的多個前沿領(lǐng)域做出...
    • 陳煥鏞
      陳煥鏞(1890 07.12 - 1971 01.18),著名植物學(xué)家,我國近代植物分類學(xué)的開拓者和奠基者之一。祖籍廣東新會,1890年6月6日生于香港。1919年畢業(yè)于...
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