人物經(jīng)歷
1931年1月28日,陳星弼出生在一個(gè)官宦之家,祖籍浙江省浦江縣青塘鎮(zhèn)。祖父曾為清朝武舉人,父親陳德征因家庭貧窮靠勤工儉學(xué)就讀于杭州之江大學(xué)化學(xué)系。母親徐呵梅是浙江余姚人,由于小時(shí)聰穎過(guò)人,外祖父不僅特許不纏小腳,還允許讀書(shū),直至進(jìn)入上海大學(xué)讀文學(xué)。五四運(yùn)動(dòng)時(shí),陳星弼的父親成了杭州學(xué)生領(lǐng)袖之一,從此進(jìn)入政界,也曾算得一個(gè)紅人。但不久得罪于蔣介石,被摘了烏紗帽,且被軟禁。這時(shí)陳星弼出生了,因此取有小名“難兒”。陳星弼3歲時(shí),眼見(jiàn)哥哥姐姐上學(xué),吵嚷著要讀書(shū),居然獲得特許,進(jìn)了小學(xué)。此后,父母年年勸其留級(jí),他卻能堅(jiān)持著學(xué)下去。6歲時(shí),日寇侵華烽火蔓至上海,他隨父母先遷至余姚,后又至浦江,最后輾轉(zhuǎn)到重慶。不久,為躲避日機(jī)轟炸,舉家遷到合川。他從8歲開(kāi)始就離家在鄉(xiāng)下小學(xué)住宿,養(yǎng)成了能吃苦和獨(dú)立生活的習(xí)慣,也深受抗日救國(guó)的思想教育。
小學(xué)畢業(yè)時(shí),他成績(jī)名列前茅?箲(zhàn)時(shí)生活極為艱苦,他也曾想停止讀正規(guī)學(xué)校,早點(diǎn)謀出路。但父親因宦海沉浮之經(jīng)歷,堅(jiān)持讓他繼續(xù)讀書(shū),學(xué)到科學(xué)技術(shù)而為國(guó)家做實(shí)事。再加上他一直進(jìn)的是國(guó)立中學(xué),包括生活費(fèi)在內(nèi)一概公費(fèi),因此沒(méi)有中斷學(xué)習(xí)。
家庭對(duì)他最大的影響是,學(xué)問(wèn)必須靠自己努力取得。當(dāng)抗戰(zhàn)勝利第二年他從內(nèi)地轉(zhuǎn)讀上海敬業(yè)中學(xué)時(shí),許多功課都很吃力。但有一天教物理的居小石老師突然向全班說(shuō):“你們都應(yīng)該向陳星弼學(xué)習(xí)。他的習(xí)題明顯都是自己一人做的。不管做得錯(cuò)或?qū),都有他特別的做法,而且愈做愈好!彼鼓勵(lì)陳星弼一輩子要做傻瓜(老實(shí)人)。老師的這些話使陳星弼受用一輩子。
1947年,他考取了同濟(jì)大學(xué)電機(jī)系,并獲得獎(jiǎng)學(xué)金。他的學(xué)習(xí)從來(lái)不拘一格。人在電機(jī)系,卻去旁聽(tīng)物理系及機(jī)械系的課,而工程力學(xué)及畫法幾何又學(xué)得比電機(jī)系的主要課程還好。他學(xué)過(guò)小提琴,而且能背出許多古典交響樂(lè)的曲譜。他也看過(guò)唯心主義的哲學(xué)書(shū)籍,以致在新中國(guó)成立后他經(jīng)過(guò)一番艱難思想斗爭(zhēng)才接受了唯物主義。他對(duì)別人說(shuō),他相信自己的唯物主義思想比較牢固,因?yàn)檫@是經(jīng)過(guò)斗爭(zhēng)得來(lái)的。
1952年畢業(yè)于同濟(jì)大學(xué)電機(jī)系。電子科技大學(xué)教授。
1952年大學(xué)畢業(yè)后,他被分配到廈門大學(xué)電機(jī)系當(dāng)助教。第二年,遇二次院系調(diào)整,轉(zhuǎn)到南京工學(xué)院無(wú)線電系。在那里,他輔導(dǎo)了幾年電工基礎(chǔ)課。
1956年,黨中央號(hào)召向科學(xué)進(jìn)軍。當(dāng)時(shí)他已被指定到新成立的成都電訊工程學(xué)院(簡(jiǎn)稱“成電”,現(xiàn)電子科技大學(xué))去工作,同時(shí)也給了他進(jìn)修新學(xué)科的機(jī)會(huì)。他選擇了到中國(guó)科學(xué)院應(yīng)用物理研究所進(jìn)修半導(dǎo)體。這一決定確定了他以后的發(fā)展方向。他在該所兩年半的時(shí)間內(nèi),一邊工作,一邊自學(xué)了從物理系四大力學(xué)到半導(dǎo)體有關(guān)的專業(yè)課,寫出了當(dāng)時(shí)才出現(xiàn)的漂移晶體管中關(guān)于存儲(chǔ)時(shí)間的論文。該文后來(lái)出現(xiàn)在Prichard著書(shū)的參考文獻(xiàn)中,由此可知是該方面最早的工作。
1959年,他回到成電。改革開(kāi)放前,由于家庭出身原因,他始終是受命去教書(shū)。他認(rèn)為要教好書(shū),不僅要把所教內(nèi)容融會(huì)貫通,還要考慮學(xué)生如何能最好地接受。他甚至為講一句話或一段話都要事先琢磨很久。因此他上課時(shí)不需講稿,只帶一張香煙盒大小的紙,寫一點(diǎn)備忘綱要即可,他的教課深受學(xué)生稱道。教書(shū)也使他自己打下了更好的科學(xué)基礎(chǔ)。
1970年,國(guó)家電視攻關(guān)中,他被派往工廠支援研制氧化鉛攝像管,得知國(guó)外已研制硅靶攝像管,建議研制這種新攝像管并獲四機(jī)部批準(zhǔn)。但是好景不長(zhǎng),才初見(jiàn)該管可出圖像,他就被首批點(diǎn)名去五七干校勞動(dòng),直至愛(ài)人病發(fā)而調(diào)回。
1980年,他被派往美國(guó)俄亥俄州大學(xué)做訪問(wèn)學(xué)者,但因?qū)I(yè)不吻合,于1981年初轉(zhuǎn)到加州大學(xué)伯克利點(diǎn)校,開(kāi)始進(jìn)行新型半導(dǎo)體功率器件的研究。1983年回國(guó)后被選為系主任,不久建立了微電子研究所。他為了國(guó)家及本單位的需要,徹底放棄了從事基礎(chǔ)物理的念頭,以MOS型功率器件為主要研究方向。在他率領(lǐng)下,在中國(guó)首次研制了VDMOST、IGBT、LDMOST、MCT、EST等器件并開(kāi)發(fā)了相關(guān)技術(shù)。
1980年美國(guó)俄亥俄州大學(xué)作訪問(wèn)學(xué)者。
1981年加州大學(xué)伯克萊分校作訪問(wèn)學(xué)者、研究工程師。
1983年任電子科技大學(xué)微電子科學(xué)與工程系系主任、微電子研究所所長(zhǎng)。曾先后被聘為加拿大多倫多大學(xué)電器工程系客座教授,英國(guó)威爾斯大學(xué)天鵝海分校高級(jí)客座教授。
1993年后,他從事功率集成電路的研究。在10年前有人提出過(guò)將半導(dǎo)體微電子電路與功率器件同時(shí)做在一塊芯片上會(huì)帶來(lái)容易實(shí)現(xiàn)各種保護(hù)及控制的好處。由于世界上有近四分之三的電能是通過(guò)半導(dǎo)體功率器件來(lái)轉(zhuǎn)換其形式后才可以使用的,因此國(guó)外有人預(yù)言做在一塊芯片上會(huì)引起所謂“第二次電子革命”。它和集成電路的發(fā)展引起的信息時(shí)代的到來(lái)——又被稱做第一次電子革命,有同樣的重要性。但是國(guó)際上制造的功率集成電路采用了復(fù)雜的工藝,而且電學(xué)性能不夠好,造成其性能價(jià)格比甚低,從而第二次電子革命的進(jìn)展甚慢。他的兩個(gè)表面耐壓層結(jié)構(gòu)的新發(fā)明解決了在普通集成電路上做功率器件的問(wèn)題,不僅制造功率器件的工藝與普通集成電路的工藝全兼容,而且所做功率器件電學(xué)性能特別優(yōu)良,阻礙第二次電子革命迅速發(fā)展的桎梏也將會(huì)因此而被打破。他最大的希望是這個(gè)成就在中國(guó)開(kāi)花結(jié)果,使中國(guó)在該領(lǐng)域居于世界領(lǐng)先的地位。
1999年當(dāng)選中國(guó)科學(xué)院院士。5月10日至14日,功率半導(dǎo)體領(lǐng)域最頂級(jí)的學(xué)術(shù)年會(huì)——第二十七屆國(guó)際功率半導(dǎo)體器件與集成電路年會(huì)(IEEE ISPSD 2015)在中國(guó)香港舉行。我校陳星弼院士因?qū)Ω邏汗β蔒OSFET理論與設(shè)計(jì)的卓越貢獻(xiàn)獲得大會(huì)頒發(fā)的最高榮譽(yù)“國(guó)際功率半導(dǎo)體先驅(qū)獎(jiǎng)”(ISPSD 2015 Pioneer Award),成為亞太地區(qū)首位獲此殊榮的科學(xué)家。
五十年代末,對(duì)漂移晶體管的存貯時(shí)間問(wèn)題在國(guó)際上最早作了系統(tǒng)的理論分析。提出新的電荷法基本方程、不均勻介質(zhì)中鏡象電荷方程等。八十年代以來(lái),從事半導(dǎo)體電力電子器件的理論與結(jié)構(gòu)創(chuàng)新方面的研究。從理論上解決了提高p- n結(jié)耐壓的平面及非平面工藝的終端技術(shù)問(wèn)題,作出了一些迄今唯一的理論分析解。在解決MOS功率管中降低導(dǎo)通電阻與提高耐壓之間的矛盾問(wèn)題上作出了系列重要貢獻(xiàn)。發(fā)明了耐壓層的三種新結(jié)構(gòu),提高了功率器件的綜合性能優(yōu)值,其中橫向耐壓層新結(jié)構(gòu)在制備工藝上與常規(guī)CMOS和BiCMOS工藝兼容,有利于發(fā)展耐高壓的功率集成電路。1999年當(dāng)選為中國(guó)科學(xué)院院士。
主要成就
主要論著
陳星弼著 南京:東南大學(xué)出版社出版日期:1990
1陳星弼,關(guān)于半導(dǎo)體漂移三極管在飽和區(qū)工作時(shí)的儲(chǔ)存時(shí)間問(wèn)題,物理學(xué)報(bào),1959,15(7 ):353~367。
2陳星弼,一維不均勻介質(zhì)中的鏡像法,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報(bào),1963,4(3):76~84。
3陳星弼,表面復(fù)合對(duì)半導(dǎo)體中非平衡載流子漂移及擴(kuò)散的影響,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報(bào), 1963,4,100。
4陳星弼、易明光,論晶體管中電荷控制法的基礎(chǔ),第二屆四川省電子學(xué)會(huì)年會(huì)論文集, 1964,168~185。
5陳星弼,小注入下晶體管IC-VBE特性的指數(shù)因子的研究,物理學(xué)報(bào),1978,2(1):10~ 21。
6Xingbi Chen,Chenming Hu,Optimum Doping Profiles of Power MOSFETs Epitaxial Layer,IEEE TransO(jiān)n Electron Devices,1982,ED-29(6):985~987.
7XBChen,Best Uniform Surface Doping in the Drift Region of Offset-Gate Power MOSFETs With Deep Junctions,Procof International Semiconductor and Integrated Circuit Technology,1986,383~385.
8陳星弼,P-N+結(jié)有場(chǎng)板時(shí)表面電場(chǎng)分布的簡(jiǎn)單表示式,電子學(xué)報(bào),1986,14(1):36~43 。
9陳星弼、蔣旭,突變平面結(jié)表面電場(chǎng)的近似公式,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報(bào),1986,15(3) :34~40。
10XBChen,ZQSong,ZJLi,Optimization of the Drift Region of Power MOSFETs with Lateral Structures and Deep Junctions,IEEE Transon Electron Devices,1987,ED-34(11),2344~2350.
11陳星弼,場(chǎng)限環(huán)的簡(jiǎn)單理論,電子學(xué)報(bào),1988,16(3):6~9。
12XBChen,ZJLi,XJiang,TwoDimensional Numerical Analysis of Field Profiles in HighVoltage Junction Devices,Chinese Journal of Semiconductor,1988,9( 2),181~187.
13陳星弼、李肇基、蔣旭,高壓半導(dǎo)體器件電場(chǎng)的二維數(shù)值分析,半導(dǎo)體學(xué)報(bào),1988,9(3 ):255~260。
14陳星弼、楊功銘,橫向結(jié)構(gòu)結(jié)深功率MOSFET漂移區(qū)的優(yōu)化設(shè)計(jì),微電子學(xué),1988。
15陳星弼,表面電荷對(duì)具有場(chǎng)限環(huán)的P+-N結(jié)電場(chǎng)及電位分布的影響,電子學(xué)報(bào),1988,16 (5):14~19。
16陳星弼、李肇基、宋志慶,高壓半導(dǎo)體器件電場(chǎng)的二維數(shù)值分析,成都電訊工程學(xué)院學(xué)報(bào) ,1988,17(1):46~53。
17Chen Xingbi,Li Zhaoji,Li Zhongmin,On Breakdown Voltage of Abrupt Junction with Cylindric Edges,Chinese Journal of Semiconductors,1989,10(2):233~ 237.
18陳星弼、李肇基、李忠民,關(guān)于圓柱邊界突變結(jié)的擊穿電壓,半導(dǎo)體學(xué)報(bào),1989,10(6 ):463~466。
19Chen Xingbi,A Theory of Floating Field-Limiting Rings Regarding the Effect of Surface Charges,Acta Electronics Sinica,Supplement,1989,105~111.
20Chen Xingbi,Analysis and Design Guidelines of JTTs Used in Planar Technology,Proc.of ICSICT’89會(huì)議特邀報(bào)告,1989,456~458.
21陳星弼,功率MOS及HVIC的進(jìn)展,第六屆全國(guó)半導(dǎo)體集成技術(shù)與硅材料學(xué)術(shù)年會(huì)特邀報(bào)告 ,1989。
22Chen Xingbi,A Simple Description of Diffused Impurity Distribution of an Instantaneous Source Through a Window of a Mask,Proc,of ICSICT’98,1989,241~ 243.
23Chen Xingbi,Li Zhaoji,Li Zhongmin,Field Profiles and Breakdown Voltages of Elliptic Cylindric Abrupt Junction,Procof ICSCT’98,1989,459~461.
24陳星弼,MOS型功率器件,電子學(xué)報(bào),1990,18(5):97~105。
25Xingbi Chen,Power MOST and Merged Devices,Procof Congress of German Chinese Electronics,BerlinO(jiān)ffenbach,1991,339~345.
26陳星弼,結(jié)終端技術(shù),第七屆全國(guó)半導(dǎo)體集成技術(shù)與硅材料學(xué)術(shù)年會(huì)特邀報(bào)告,1991, 5~6。
27XBChen,BZhang,ZJLi,Theory of Optimum Design of ReverseBiased p n Junctions Using Resistive Field Plates and Variation Lateral Doping,Solid State Electronics,1992,35(9):1365~1370.
28陳星弼、曾軍,擴(kuò)散平面結(jié)反偏壓下的電場(chǎng)分布與擊穿電壓,電子科技大學(xué)學(xué)報(bào),1992, 21(5):491~499。
29陳星弼,半導(dǎo)體器件與微電子學(xué)的發(fā)展動(dòng)向,當(dāng)代電子,四川省電子學(xué)會(huì)主編,1992,84 ~94。
30XBChen,PAMawby,CATSalama,MSTowers,JZeng,KBoard,Latera l HighVoltage Devices Using an Optimized Variational Lateral Doping,IntJ Electronics,1996,80(3),449~459.
31Xingbi Chen,KO(jiān)Sin,Min Zhang,Bin Wang,An Analytical Model for Electric Field Distribution of Positively Beveled Abrupt PN Junctions,IEEE TransElectron Devices,1997,ED-44,5:869~873.
32陳星弼,用于靈巧功率集成電路的創(chuàng)新型橫向器件,第二屆中國(guó)西部地區(qū)微電子技術(shù)年會(huì) 論文集(四川、 重慶、 廣西、 甘肅、 云南六地市),1998,1~7。
33Chen Xingbi,Theory of a Novel Voltage Sustaining (CB) Layer for Power Devices,Chinese Journal of Electronics,1998,7( 3),211~216.
34XBChen,PAMawby,KRoad,CATSalama,Theory of a Novel Voltage Sustaining Layer for Power Devices,Microelectronics Journal,1998,29 (12):1055~1011.
35陳星弼、葉永萌,對(duì)高等學(xué)校人才培養(yǎng)的思考和看法,電子高教研究,1998,2、3,13~ 15。
36Xingbi Chen,Breakthrough to the Silicon Limit of Power Devices (Invite Paper),5th International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology Proceedings, IEEE Press,1998,141~144.
37陳星弼、葉星寧、唐茂成、王新、蘇秀娣、單成國(guó),新型CMOS全兼容二極管,電子科技大 學(xué)學(xué)報(bào),1999。
38Xingbi Chen,Xin Wang,KO(jiān)Sin,A Novel HighVoltage Sustaining Structure with Buried Oppositely Doped Regions,IEEE Transon Electron Devices,2000,ED- 47(6):1280~1285.
39Chen Xingbi,Optimum Design Parameters for Different Patterns of CBStructure,Chinese Journal of Electronics,2000,9,(1):6~11.
40陳星弼,由半導(dǎo)體微電子技術(shù)引起的第一次電子革命及第二次電子革命,電子科技大學(xué)學(xué) 報(bào)社科版,2000,2(2):20~25。
41陳星弼,第一次電子革命及第二次電子革命,微型電腦應(yīng)用,2000,16(8)。
42陳星弼,科技為本 創(chuàng)新為魂——由半導(dǎo)體技術(shù)引起的重大革命,世界電子元器件,2000 。
43陳星弼、蒲慕名、張瑞敏、車俊、尚選玉、于慶成、杜彭,我的創(chuàng)新與財(cái)富觀,中國(guó)青年 科技,2001。
44Xingbi Chen,KO(jiān)Sin,Optimization of the Specific OnResistance of the COOLMOS,IEEE Transon Electron Devices,2001,ED-48(2):344~348.
45Chen Xingbi,Theory of the Switching Response of CBMOST,Chinese Journal of Electronics,2001,10( 1):1~6.
46Chen Xingbi,Fan Xuefeng,Optimum VLD Makes SPIC Better and Cheaper,Procof ICSICT’2001,104~108.
47Xingbi Chen,Hongqiang Yang,Min Cheng,New Silicon Limit of Power Devices,Solid-State Electronics,2002,46:1185~1192.
48陳星弼,由半導(dǎo)體微電子技術(shù)引起的第一次電子革命及第二次電子革命,第十六屆全國(guó)電 源技術(shù)年會(huì),2005,32~36。
49陳星弼,超結(jié)器件,電力電子技術(shù),2008,42(12)。
50Chen Xingbi,Huang Mingmin,A Vertical Power MOSFET with an Interdigitated Drift Region Using High-k Insulator,IEEE Transactions on Electron Devices,2012 ,59 (9), 2430~2437.
教學(xué)成果
陳星弼任教四十多年來(lái),教過(guò)多種課。他親自教過(guò)及培養(yǎng)過(guò)近千名的學(xué)生,普遍反映受影響最深,他對(duì)學(xué)生要求嚴(yán)格。這些至今有口皆碑。他公開(kāi)出版五本書(shū),不少書(shū)迄今仍是許多大學(xué)的教材。
學(xué)術(shù)論述
1 OptimizationoftheDriftRegionofPowerMOSFET`swithLateralStructuresandDeepJunctions
2 一維不均勻媒質(zhì)中的景象法
3 小注入下晶體管Ic-V_be特性的指數(shù)因子的研究
4 論晶體管電荷控制法的基礎(chǔ)
5 關(guān)于圓柱邊界突變結(jié)的擊穿電壓
6 關(guān)于半導(dǎo)體漂移三極管在飽和區(qū)工作的儲(chǔ)存時(shí)間問(wèn)題
7 TheoryoftheSwitchingResponseofCBMOST
8 Theoryofoptimumdesignofreverse-biasedp- njunctionssuingresistivefieldplatesandvariationlateraldoping
9 OptimumVLDmakesSPICBetterandCheaper
10 OptimumDopingProfileofPowerMOSFETEpitaxialLayer
11 OptimumDesignParametersforDifferentPatternsofCB-Structure
12 OptimizationoftheSpecificOn-ResistanceoftheCOOLMOS~TM
13 New“siliconlimit”ofpowerdevices
14 Lateralhigh-voltageusinganoptimizedvariationallateraldoping
15 Breakthroughtothe“Siliconlimit”ofPowerDevices
16 Analysisanddesignguidelinesofjit`susedinplanartechnology
17 AnAnalyticalModelforElectricFieldDistributionofPositivelyBeveledAbruptPNJunctions
18 ATheoryofFloatingField-LimitingRingsRegardingtheEffectofSurfaceCharges
19 Asimpledescriptionofdiffusedimpuritydistributionofaninstantaneoussourcethroughawindowofamask
20 ANovelHigh-VoltageSustainingStructurewithBuriedOppositelyDopedRegions
研究成果
陳星弼在新型功率(電力電子)器件及其集成電路這一極其重要領(lǐng)域中,做出了一系列重要的貢獻(xiàn)與成就。他率先在中國(guó)提出立項(xiàng)并作為第一主研完成了VDMOST、IGBT、Offset-GateMOST、LDMOST、SPIC及RESURF、SIPOS等器件及有關(guān)技術(shù)。他對(duì)垂直型功率器件耐壓層及橫向型功率器件的表面耐壓區(qū)唯一地作出了優(yōu)化設(shè)計(jì)理論且得到實(shí)際應(yīng)用。對(duì)功率器件的另一關(guān)鍵技術(shù)——結(jié)終端技術(shù)——作出了系統(tǒng)的理論分析及最優(yōu)化設(shè)計(jì)方法并應(yīng)用在各種電力電子器件的設(shè)計(jì)中取得良好的效果。他還提出了斜坡場(chǎng)板這一新結(jié)構(gòu)的理論。他的三項(xiàng)重要發(fā)明能使電力電子器件在一個(gè)新的臺(tái)階上發(fā)展。這些發(fā)明打破了傳統(tǒng)極限理論的約束,使器件的電學(xué)性能得到根本性的改進(jìn)。第一種第二種發(fā)明突破了高速功率MOS高壓下導(dǎo)通電阻極限理論,得到新的極限關(guān)系。第一種發(fā)明被Siemens公司實(shí)現(xiàn),98年在國(guó)際電子器件會(huì)議(舊金山)發(fā)表。第二種發(fā)明及第三種發(fā)明已在國(guó)內(nèi)實(shí)驗(yàn)成功。根據(jù)第三種發(fā)明來(lái)制造高壓(功率)集成電路中的橫向器件,可以在工藝上和常規(guī)的CMOS及BiCMOS工藝兼容,使這種電路不僅性能優(yōu)越,而且成本節(jié)省,可立足國(guó)內(nèi),并正在走向產(chǎn)品開(kāi)發(fā)。他作為唯一(或第一)作者(或主研)已在IEEE等學(xué)術(shù)刊物發(fā)表論文40多篇,出版著作五種(六冊(cè)),取得美國(guó)及中國(guó)發(fā)明專利權(quán)七項(xiàng),獲得國(guó)家發(fā)明獎(jiǎng)及國(guó)家科技進(jìn)步獎(jiǎng)二項(xiàng),省部級(jí)獎(jiǎng)十三項(xiàng)。
獲獎(jiǎng)記錄
陳星弼還負(fù)責(zé)過(guò)“八五”國(guó)家科技攻關(guān)重點(diǎn)項(xiàng)目、國(guó)家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目、國(guó)防科工委及各種省部級(jí)項(xiàng)目近20項(xiàng),其中,兩項(xiàng)獲美國(guó)發(fā)明專利,三項(xiàng)獲中國(guó)發(fā)明專利獎(jiǎng),兩項(xiàng)獲國(guó)家發(fā)明獎(jiǎng)及科技進(jìn)步獎(jiǎng),13項(xiàng)獲國(guó)家教委及省部級(jí)獎(jiǎng)。1999年,陳星弼當(dāng)選為中科院院士。
1991年起享受國(guó)務(wù)院特殊津貼,1997年被電子工業(yè)部授予優(yōu)秀教師獎(jiǎng)項(xiàng),1998年被評(píng)為全國(guó)優(yōu)秀教師、四川省學(xué)術(shù)技術(shù)帶頭人、成都市勞模。
社會(huì)任職
他是中國(guó)電子學(xué)會(huì)會(huì)士,美國(guó)IEEE高級(jí)會(huì)員,中國(guó)國(guó)家自然科學(xué)基金評(píng)審員,美國(guó)紐約科學(xué)院(并入選其出版的世界名人錄Marquisswhointheworld”中),半導(dǎo)體學(xué)報(bào)編委,中國(guó)電子學(xué)會(huì)半導(dǎo)體與集成技術(shù)委員會(huì)委員,中國(guó)電子學(xué)會(huì)四川省分會(huì)理事兼半導(dǎo)體與集成技術(shù)分會(huì)主任委員,曾連續(xù)擔(dān)任國(guó)際SSICT程序委員及分會(huì)主席及一屆中德友好電子周分會(huì)主席。
陳星弼是中國(guó)電子學(xué)會(huì)會(huì)員,美國(guó)IEEE高級(jí)終身會(huì)員,
人物評(píng)價(jià)
陳星弼教授是中國(guó)電子學(xué)會(huì)會(huì)士、美國(guó)IEEE高級(jí)會(huì)員。多次出訪國(guó)外進(jìn)行科技學(xué)術(shù)交流。他熱愛(ài)祖國(guó)、忠誠(chéng)黨的教育事與科學(xué)事業(yè)。學(xué)識(shí)淵搏、治學(xué)嚴(yán)謹(jǐn)、工作刻苦。有堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)理論,能及時(shí)抓住新方向,很快深入,既能發(fā)現(xiàn)問(wèn)題有能解決問(wèn)題。